독특한 특성을 가진 탄탈 룸 플레이트

탄탈 룸 플레이트는 주요 재료로서 탄탈 룸으로 만든 금속 플레이트입니다. 탄탈 룸 플레이트는 수염산, 농축 질산 및 실온에서 "아쿠아 레지아"와 같은 강산 및 알칼리에 대한 매우 높은 저항성을 나타내며, 부식성이 우수합니다. 탄탈륨의 용융점은 약 3000도 정도로 높기 때문에 탄탈 룸 플레이트는 고온 환경에서 안정적인 성능을 유지할 수 있습니다. 탄탈 룸 플레이트는 강도가 높고 기계적 특성이 우수하며 더 큰 압력과 하중을 견딜 수 있습니다. 탄탈 룸 플레이트는 가소성과 가공 특성이 우수하며 차갑고 뜨거운 과정이 쉽습니다.

탄탈륨 플레이트는 일반적으로 분말 야금, 주조 및 가공과 같은 공정을 통해 제조됩니다. 그 중 냉간 가공은 탄탈륨판을 제조하는 주요 방법 중 하나입니다. 일반적으로 15~30cm 크기의 탄탈륨 잉곳으로 시작하여 약 8~10m 두께의 슬래브로 냉간 단조된 후, 이 슬래브에서 냉간 압연이 시작되며 압축률은 95% 이상입니다. 상업생산에서는 슬라브를 2개의 롤러 또는 4개의 롤러를 사용하여 두께 0.63~1.2cm의 판으로 압연하는 것이 일반적이며, 폭은 일반적으로 51~102cm이다.

탄탈륨판은 고성능 소재로서 다양한 분야에서 널리 사용되고 있습니다. 항공우주 분야에서 탄탈륨 판을 적용하는 것은 주로 우수한 고온 안정성과 내식성에 반영됩니다. 고온 및 고압 터빈 블레이드, 로켓 엔진 및 기타 부품을 만드는 데 자주 사용됩니다. 이러한 부품은 작업 시 극도로 높은 온도와 압력을 견뎌야 하며, 탄탈륨 플레이트는 이상적인 선택 중 하나입니다. 또한, 니켈계, 코발트계, 철계 합금 등 다양한 합금에도 탄탈륨을 첨가하여 초합금, 내식합금, 내마모합금 등 고성능 합금을 제조할 수 있으며, 항공기 엔진 터빈 블레이드, 가이드 베인, 터빈 디스크 등 고온 부품을 제조합니다. 또한 탄탈륨은 확산 장벽 역할을 하여 구리 매트릭스와 화학적으로 반응하지 않고 실리콘과 구리에 고유한 접착 특성을 생성하여 반도체 공정에 사용할 수 있습니다.

Tantalum은 매우 부드럽기 때문에 가공 및 운송 중 긁힘을 방지하기 위해주의를 기울여야합니다. 성능 및 서비스 수명에 영향을 미치지 않습니다. 탄탈 룸 플레이트는 수분과 부식을 피하기 위해 부식성 가스가없는 건조하고 환기 된 환경에 보관해야합니다. 요약하면, 탄탈 룸 플레이트는 현대 산업에서 고유 한 특성과 광범위한 응용 분야를 가진 필수 불가능하고 중요한 자료가되었습니다. 과학 기술의 지속적인 개발로 인해 탄탈 룸 플레이트의 응용 분야는 계속 확장 될 것이며, 미래 과학 기술에서의 중요한 위치가 더욱 두드러 질 것입니다.

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