현대 금속 탄탈륨 타겟

현대 금속 탄탈륨 타겟

탄탈륨 타겟은 탄탈륨 금속을 가공하여 얻은 타겟형 금속으로, 탄탈륨 함량이 매우 높습니다.
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설명

제품 설명

 

단면 결정립 방향 및 압연 결정립탄탈륨 타겟분말 야금 탄탈륨 타겟 블랭크. 결과는 분말 야금에서 탄탈륨 타겟의 결정 방향이 더 균일하고 입자가 더 작아서 탄탈륨 타겟의 스퍼터링 성능과 스퍼터링된 필름의 균일성에 더 도움이 된다는 것을 보여줍니다. 미래의 첨단 공정 집적 회로 준비 과정에서 분말 야금용 탄탈륨 타겟이 중요한 응용 분야에 사용될 수 있습니다.

 

제품 매개변수

지름 1.0~150mm
재료 탄탈륨 및 탄탈륨 합금
청정 99.95% - 99.9%
기준 ASTM B521, ASTM F560

 

제품 협력 사진

55

Silicon metal package

Transporting silicon metal

ZhenAn y

1.우선적으로 지향하는탄탈륨 타겟및 그 제조방법. 비틀림 변형을 통해 탄탈륨 잉곳의 내부 텍스처 방향을 제어하고 비틀림을 통해 탄탈륨 잉곳의 직경 방향을 따라 접선 변형을 생성한 다음 탄탈륨 잉곳의 내부 텍스처 방향을 방향적으로 변경하여 제어 목적을 달성합니다. 본 발명은 비틀림을 통해 타겟물질 구조의 균일성을 향상시키고, 타겟물질의 결정립 크기를 감소시키며, (111), (100)의 성분비를 높여 텍스처 우세를 높일 수 있다. 변형; 그리고 본 발명에서 제공하는 제조방법은 탄탈륨 잉곳을 단조 및 압연할 필요가 없으며, 타겟물질에 혼입되는 불순물 함량을 줄일 수 있다.

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